[摘要]福建電鍍之厚離子鍍層低成本制作方案高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)(HPPMS)是結(jié)合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統(tǒng)。
福建電鍍之厚離子鍍層低成本制作方案
高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)，能越傳統(tǒng)的磁控濺射方法，制作出高質(zhì)量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度，不但加強(qiáng)鍍層與底材之間的接合力，亦可減低表面粗糙度，在功能性部件上可進(jìn)一步增強(qiáng)耐磨性能及減少替換次數(shù)。
對(duì)裝飾性強(qiáng)的產(chǎn)品來(lái)說(shuō)，可保持外觀及更耐用，因此以高能量脈沖式制作鍍層，能有效利用等離子體，從而控制涂層的結(jié)構(gòu)，其大特色是可沉積在光滑致密的微細(xì)結(jié)構(gòu)，提升耐腐蝕性及表面光潔度;又或是可沉積在復(fù)雜的幾何工件之上，達(dá)致更均勻的涂層。
高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)(HPPMS)是結(jié)合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統(tǒng)。在鍍層過(guò)程上，電源扮演重要的角色，采用「高能量」和「脈沖式」的放電方式，可于少于2微秒的短時(shí)間，發(fā)出高達(dá)1500V輸出電壓的強(qiáng)大能量，猶如閃電現(xiàn)象。
高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)，能越傳統(tǒng)的磁控濺射方法，制作出高質(zhì)量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度，不但加強(qiáng)鍍層與底材之間的接合力，亦可減低表面粗糙度，在功能性部件上可進(jìn)一步增強(qiáng)耐磨性能及減少替換次數(shù)。
對(duì)裝飾性強(qiáng)的產(chǎn)品來(lái)說(shuō)，可保持外觀及更耐用，因此以高能量脈沖式制作鍍層，能有效利用等離子體，從而控制涂層的結(jié)構(gòu)，其大特色是可沉積在光滑致密的微細(xì)結(jié)構(gòu)，提升耐腐蝕性及表面光潔度;又或是可沉積在復(fù)雜的幾何工件之上，達(dá)致更均勻的涂層。